このたび弊社では、Eulitha社（スイス）と、ナノパターン露光装置 Phabler100の販売・サポートの代理店契約を締結いたしました。
同社のナノパターン露光装置 Phabler100は独自の「タルボ効果」”Displacement Talbot Lithography (DLT) technique”により、周期パターン（Linear Grating、Square Lattice, Hexagonal Lattice等）を、ローコストでハーフピッチ65nmレベルの一括露光を実現する装置です。
ナノオーダーの（周期）パターン寸法が要求される、DBFレーザー、DBRレーザー、Nanowire LED、Solar cells、Encoders: radial and linear、Nanoparticle production、Nano-structured filters等の市場にPhabler100の拡販を進めてまいります。
なにとぞ倍旧のご支援を賜りますようお願い申し上げます。

【企業名】Eulitha社：本社　スイス、チューリッヒ　url:http://www.eulitha.com/
【Phabler100の特徴】
①高解像度： 300nm ピッチ以下
②DUV光源でハーフピッチ65nm（L/S)を実現
③フルフィールド露光
④ノンコンタクト：マスクのダメージ、コンタミからの保護
⑤実質的にDOFに制限がありません
⑥ノンフラット基板に強い
⑦高い露光均一性
⑧重ね合わせ機能
⑨汎用フォトレジスト、マスクを使用
⑩汎用マスク使用
⑪マスク寸法に対して2倍の分解能のパターニングを実現
⑫対応ウエハサイズ：４”、６”、（８”）